在工业静电控制领域，离子风机与监控仪的协同工作是实现高效静电消除和智能化管理的关键。本文基于东日技研（DIT）的多款离子风机及监控仪产品技术资料，深入解析其协同技术原理，揭示其在半导体、显示器、精密制造等高洁净环境中的应用价值。一、离子风机的核心功能与技术特性离子风机通过电晕放电或高频交流电压产生正负离子，中和物体表面的静电荷。其核心技术参数包括：放电方式：脉冲AC、高频AC或直流，决定离子生成的
2025-07-08 admin
DIT静电消除与空气净化技术：重塑半导体制造洁净新标准在半导体制造领域，微米级颗粒污染和静电干扰是制约良率提升的两大核心挑战。DIT凭借其创新的离子发生器与静电除尘技术，为行业提供了针对性解决方案，解决了传统工艺中的多项痛点，推动了半导体制造的精细化与高效化发展。一、直击行业痛点：DIT如何破解半导体生产中的隐形威胁？颗粒物污染的致命威胁半导体制造中，0.3μm以上的颗粒物即可导致晶圆缺陷，而传统
2025-07-07 admin
DIT静电处理技术方案在半导体行业的应用一、半导体行业静电处理痛点分析半导体行业对静电控制的要求极高，静电不仅会导致颗粒物污染，还会对敏感器件造成损害。主要的痛点包括：Fuzzy Ball和放电针侵蚀：在半导体制造过程中，空气中的氧气、氢气、水分与离子结合形成的Fuzzy Ball（NH4NO3）会附着在晶圆表面，导致颗粒物污染。同时，放电针的侵蚀会导致尖端破损，缩短静电消除器的寿命。超近距离静电
2025-07-04 admin
一、IE系列滤波器（IE1/IE3）核心优势卓越的电磁兼容性（EMC）防护双重滤波设计：采用两级滤波电路（IE3系列），有效抑制差模/共模噪声，提供更优的电磁干扰衰减性能。双向噪声抑制：可同时过滤外部侵入和内部产生的噪声，适用于高敏感电子设备。高可靠性设计金属屏蔽外壳：增强抗电磁干扰能力，保护内部元件免受环境影响。环氧树脂封装（IE3系列）：提升绝缘性能与耐候性，确保长期稳定运行。宽温域与安全认证
2025-07-03 admin
CL2系列与CN2系列EMI/EMC滤波器深度对比——从结构设计到应用场景的技术解析一、核心定位差异维度CL2系列CN2系列产品定位高性能屏蔽型经济实用型设计哲学"金属铠甲"防护"经济布衣"性价比典型用户工业自动化、医疗设备消费电子、办公设备
2025-07-02 admin
Dongil Technology 离子化与颗粒过滤系统技术解析——革新半导体洁净环境解决方案一、高级离子发生器（High Class Ionizer）1. 核心技术创新Fuzzy Ball生成抑制通过Short-Pulse电压输出技术（文档图示），将传统持续高压改为毫秒级脉冲放电，消除过度等离子场：根源抑制NH₄NO₃结晶（Fuzzy Ball）形成放电针侵蚀率降低76%，寿命延长至6个月空气动
2025-06-30 admin
